紫外大面积曝光光源

2019/11/25

我们的1000 W紫外大面积曝光光源包括近紫外(350 - 450 nm)、中紫外(260 - 320 nm) 和深紫外(220 - 260 nm)光源。近紫外是经过专门设计，可曝光大部分光刻胶；中紫外用于聚合物交联以及新型光刻胶；深紫外主要用于深紫外光刻胶的研究。我们的照明器可辐照 2.13 x 2.13英寸 到 10 x 10 英寸的样品。近紫外、中紫外和深紫外光源为HgXe灯，在工作平面上产生高度均匀的准直光束。

特点：

• 高强度输出

• 强度分布均匀的大面积准直光束

• 高效带外抑制

• 定时曝光

紫外大面积曝光光源技术参数：